Industrie Mag - Le journal de l'industrie.

Les systèmes Compact 21 - 3’’ wafer sont conçus pour la recherche sur les semi-conducteurs composés dans l’industrie microélectronique ou l’optoélectronique. La technologie de croissance MBE a été choisie comme plate-forme optimale lorsque de meilleures performances des hétérostructures semi-conductrices complexes sont nécessaires.

Ces deux nouveaux systèmes permettront à l’Université de Technologie de Vienne d’augmenter ses capacités de recherche sur de nouvelles structures III-V et métaux. Afin d’étendre les capacités de recherche et permettre la croissance de structure avec des matériaux "incompatibles", les deux systèmes MBE seront reliés entre eux permettant ainsi de maintenir un environnement ultravide complet tout au long des processus MBE.

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